合明科技浅析:水基清洗剂与水基清洗设备配合的要点与作用?
发布时间:2022-09-25 18:33:51

合明科技浅析:水基清洗剂与水基清洗设备配合的合明合要点与作用?

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在IPC-CH-65B中文清洗标准中,剂水基清水基清洗步骤定义:

①、洗设洗涤:首要的备配清洗操作,利用化学和物理作用将不良杂质(污染物)从表面去除。点作洗涤液可由纯水或含弱碱性化学品的合明合水所构成。

②、科技冲洗:清洗作业(通常跟随在洗涤步骤之后),浅析清洗干净纯水冲洗置换,水基通常是剂水基清通过稀释,任何残留污染的洗设洗涤液。通常会采用多道冲洗来减少任何残留污染。备配

③、干燥: 去除任何残留在已洗涤和已冲洗表面的水的制程。干燥后必须是无污的表面。

水基清洗工艺概述:

清洁的目的是去除零件表面的外来杂质,以避免对产品的性能和外观上造成不利影响。如清洁丝网和钢网是为保持其最佳状态以方便再次使用。

所需的清洁程度可能会因产品类型和性能需求有所不同,如丝网和钢网通常清洗到“视觉清洁”的状态,部件清洁必须能够消除可见与不可见的污染物,如离子化的材料及可能会干扰润湿性和粘合性的残留物。

对于电子组装件,“视觉清洁”的外观可能会达到令人满意的外观标准,但确保产品性能方面可能不会令人满意。

因此,通常采用半定量和定量测试,以确认清洗过程中的目标得到满足,在清洁中“性能设置要求”是首要目标,其他目标也必须设定和实现。清洗过程中不得损坏已清洁的部分,清洗必须在实际和符合成本效益方面能够完成。应用的清洗工艺也必须是安全的以及环境的相容性。

水本身是一个非常安全的材料,不会损坏电子装配过程中使用的大部分部件。水在安全和健康方面不存在任何问题。使用低离子浓度的DI水在某些情况下可能影响表面。另外,零件清洗后水必须被清除,因为湿气的存在可能会干扰电气性能,所以干燥步骤必须是水基清洗过程中的一部分。在所有的清洗过程,需要检查零件的相容性和冲洗的敏感性。必要时,应该检查这个设计以确保敷形涂覆足够干燥。

当选择一个清洗工艺时,必须考虑许多因素,处理产量、劳动力、空间要求、洗涤/冲洗介质、搅拌方法、应用条件和设备的功能都必须考虑到。

总之,清洗工艺设计的目标是对产品没有损害,采取可操作的、有竞争力的成本、安全和环保的方法,从零件表面清除不需要的物质(工艺残渣)。

综上,水基清洗配套清洗设备是必需的,以便确保安全可靠的水基清洗工艺流程。

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